桌面型小型蒸發鍍膜儀，可提供*大150A的鍍膜電流，能夠滿足各種常見金屬的蒸鍍及部分非金屬蒸鍍。真空腔體采用不不銹鋼制作，出廠經過除氣處理，配合分子泵組可達到5x10^-5Pa極限真空，能夠滿足絕大部分材料蒸發所需的真空環境。真空腔體采用上掀蓋開啟方式，便于取放樣，腔體上配置有帶擋板的適應觀察窗，用于觀察鍍膜過程，擋板則可以有效防止觀察窗被膜料污染。

技術參數：

產品名稱	小型高真空雙源熱蒸發鍍膜儀
產品型號	CY-EVZ273-II-HH-SS
樣品臺	尺寸	φ100mm
	轉速	1-20rpm可調
	至蒸發源間距	60mm~100mm可調
蒸發系統	蒸發源	鎢絲籃
	熱電偶	S型熱電偶
	工作電流	≤150A
真空腔體	腔體尺寸	φ273mm×280mm
	觀察窗口	石英觀察窗 φ80
	開啟方式	上開啟式
	腔體材料	不銹鋼
真空系統	產品型號	CY-GZK103-A
	抽氣接口	KF40
	分子泵	大阪600l/s
	排氣接口	KF16
	前極泵	旋片泵
	真空測量	復合真空計
	極限真空	1.0E-5Pa
	抽氣速率	分子泵：600L/S  旋片泵：1.1L/S  綜合抽氣性能：20分鐘真空度可達： 1.0E-4Pa
其他	供電電壓	AC220V,50Hz
	整機功率	2kw
	整機尺寸	600mm× 300mm× 470mm
	整機重量	70kg